簡要描述:高真空退火爐 測試儀器可實現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空, 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐,是一種目前理想的高真空退火爐。
產(chǎn)品分類
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品牌 | 北京華測 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子,冶金,電氣,綜合 |
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儀器介紹:
華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)精度高,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器——高真空退火爐。它能在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐??蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染??稍诟哒婵眨叱黾兌葰怏w中加熱。還能節(jié)省時間并提高實驗速度;不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求;安裝簡單,有冷卻系,an全可靠;提高試驗人員的工作效率,實現(xiàn)全溫度控制操作。
高真空退火爐
設(shè)備優(yōu)勢:
1、它可以勻速、階梯(升降溫)、循環(huán)沖擊、真空、氣氛等多種的加熱方式。
2、采用全移相觸發(fā)技術(shù),可實現(xiàn)控制精度波動0.5℃以內(nèi),溫控精度之高。
3、加熱速度之快,同時它可以提供材料多性的測試環(huán)境。
設(shè)備結(jié)構(gòu):
序號 | 項目 | 數(shù)量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體 | 1 | 華測 | 大溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE() | |
3 | 溫度控制器 | 1 | 華測 | |
4 | 電熱偶 | 1 | omega | |
5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍() | |
6 | 穩(wěn)壓電源 | 1 | 華測 | 可定制 |
7 | 制冷水機 | 1 | 同飛 | 制冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶() | CF法蘭,抽速≥40L/s,極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa |
儀器試樣試驗:
多應(yīng)用:
樣品腔內(nèi)徑≥30mm; 退火爐外徑:≤100mm
1、電子材料
半導體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)
熱源薄膜形成
激活離子注入后
硅化物的形成
2、陶瓷與無機材料
陶瓷基板退火爐
玻璃基板退火爐。
3、鋼鐵和金屬材料
薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬
爐焊接模擬
高真空熱處理(1000°c以下)
大氣氣體熔化過程
壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐
4、復合材料
耐熱性評價爐
無機復合材料熱循環(huán)試驗爐
5、其他
高溫拉伸壓縮試驗爐
分段分區(qū)控制爐
溫度梯度爐
爐氣分析
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